Инженеры Техасского университета в Остине создали настольное устройство для экстремальной ультрафиолетовой литографии и объединили его с новой технологией 3D-печати, которая сокращает время обработки наноструктур полупроводников с дней до минут, согласно исследованию, опубликованному в Nano Letters.

Стандартные машины для EUV-литографии стоят более 200 миллионов долларов и занимают целую комнату, что делает коммерческое производство полупроводников недоступным для большинства исследовательских институтов. Команда Cockrell School упростила традиционный принтер до основных компонентов, создав модульную, более дешевую систему, которая помещается на столе. Это значительный сдвиг для академических исследователей, которые не имеют доступа к оборудованию промышленного масштаба.

Технология, называемая объемным 3D-шаблонированием, решает постоянное узкое место. Коммерческая EUV-литография может печатать 3D-наноструктуры только пошагово в 2D, по одному слою за раз. Новый подход печатает несколько слоев одновременно. «Сама печать может не занять много времени», — сказал Чи-Хао Чанг, профессор Департамента машиностроения Уокера и один из ведущих авторов статьи. «Но обработка может занять дни».

В настоящее время система может создавать только периодические структуры, что делает ее наиболее полезной для чипов памяти и фотоники. Долгосрочная цель — более быстрые принтеры, способные создавать более сложные структуры для меньших транзисторных переключателей, что даст отдельным чипам большую вычислительную мощность. «Помимо производства полупроводников, возможность создания 3D-наноструктур может найти применение в медицине для нанолекарств, квантовых вычислений или синтеза новых материалов», — сказал Саурав Моханти, недавний выпускник докторантуры и первый автор исследования.

Источник: cockrell.utexas.edu